エリプソメトリーを用いた薄膜の光学定数及び膜厚の評価

記事No. 202304-01
タイトル

エリプソメトリーを用いた薄膜の光学定数及び膜厚の評価
著者 構造化学研究部　鈴木 亜紀
要旨 分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率・消衰係数）や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。
目次
（全5ページ）
  1. はじめに
  2. エリプソメトリーについて
  3. PVA膜スピンコート直後の経時変化
  4. シリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価
  5. おわりに
図表
  1. 反射光の偏光状態の変化
  2. PVA膜/熱酸化膜/Si基板の測定解析結果
  3. PVA膜(赤)と熱酸化膜(青)の屈折率の波長分散
  4. スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜の膜厚と屈折率の経時変化
  5. スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜中に含まれる水分量の変化
  6. 自動エッチング装置から得られる傾斜面
  7. 傾斜エッチングした熱酸化膜/Si基板の熱酸化膜の膜厚分布
  8. X=0.45 cmにおけるY軸方向の膜厚変化
サンプルページ
サンプルPDF
価格 PDF FILE (PDF:935KB)
2,200円（税込）
購入手続き

※お支払い完了後は”ショピングサイトに戻る”ボタンを押してください。PDFが開きます。