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Ga2O3膜の分析評価技術
記事No. | 201901-01 |
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タイトル |
Ga2O3膜の分析評価技術 |
著者 | 表面科学研究部 中田 由彦 |
要旨 | SiCやGaNより大きなバンドギャップを持つ酸化ガリウム(Ga2O3)は新たなパワーデバイス材料として注目されている。 デバイス応用に向けた薄膜成長技術の発展とともに、Ga2O3薄膜の分析評価技術の重要性は益々高まると考えられる。 本稿では、サファイア基板上に作製したGa2O3膜の結晶構造解析、および不純物、欠陥評価を行った事例について紹介する。 |
目次 (全4ページ) |
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図表 |
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価格 | PDF FILE (PDF:940KB) 2,200円(税込) |
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