分析応用講座【発生ガスの分析~捕集から分析まで~】

開催日時
2018年11月22日(木)13:00~16:30【申込締切:2018年11月21日(水)正午まで】
会場
東京都中央区日本橋本町1-1-1 METLIFE日本橋本町ビル 8階
(株式会社東レリサーチセンター内 第2会議室)
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受講料
45,000円(税込)
アカデミック価格について
講師
研究部門 研究員 小川 賢吾

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講座概要

発生ガスには、半導体製造工程やクリーンルームで発生する比較的低濃度に汚染物質を含有する発生ガス(低濃度汚染ガス)、工業材料や環境に由来して発生する比較的高濃度に汚染物質を含有する発生ガス(高濃度汚染ガス)があります。

本講座では、これら発生ガスについて現場でのガス分析(サンプリング)から、分析手法(TPD-MS 等)および機器の基礎、データの解釈までを網羅して講義します。また、発生ガス分析において重要な観点である法規制についても講義します。

【想定受講者】

  • 発生ガスで困っている方
  • TPD-MS、GC分析担当者
  • 製造工程や作業環境管理者
  • 排ガス、樹脂成型、半導体、クリーンルーム、臭気に関連する研究者

<吸着剤を用いた雰囲気捕集方法の実演付き>

カリキュラム

発生ガス分析概論
  1. 発生ガスが引き起こすトラブル
  2. 発生ガス分析を用いたトラブルへのアプローチ例
  3. ガス関連の法規制紹介(指定成分、指針値等)
捕集方法と分析方法
  1. 捕集方法の考え方
  2. 分析方法の考え方
  3. 組み合わせ例
分析事例と結果の考え方
  1. 半導体関連
  2. リソグラフィー関連
  3. 排ガス関連
  4. 自動車、工場等
  5. 作業環境関連(樹脂成型時、クリーンルーム等)
  6. VOC関連(建材、樹脂、各種部材等)
  7. その他

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