分析基礎講座【発生ガスの分析 ～低濃度汚染ガス（半導体・クリーンルーム関連）～】
- 開催日時
- 2017年4月21日（金）13:00～16:30【申込締切：2017年4月20日（木）】
- 会場
- 東京都中央区日本橋本町1-1-1 METLIFE日本橋本町ビル 8階
（株式会社東レリサーチセンター内 第2会議室）
地図はこちら (Google Map)
- 参加費用
- 40,000円（税込）
- 講師
- 研究部門 研究員 小川 賢吾
申し込み受付を終了しました。
講座概要
本講座では、半導体製造工程やクリーンルームで発生する比較的低濃度に汚染物質を含有する発生ガスを対象とした分析について講義します。
現場でのガス分析（サンプリング）から、分析手法および機器の基礎、データの解釈までを網羅します。
発生ガス分析に取り組んでいるまたは取り組む必要がある方、製造工程で発生するガスについてお困りの方に最適の講座です。
＜吸着剤を用いた雰囲気捕集方法の実演付き＞
カリキュラム
発生ガス分析概論
- 発生ガスが引き起こすトラブル
- 発生ガス分析を用いたトラブルへのアプローチ例
捕集方法と分析方法
- 捕集方法と考え方
- 分析方法の考え方
- 組み合わせ例
分析事例と結果の考え方
- 半導体関連
- リソグラフィー関連
関連分析手法リンク
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