分析基礎講座【XPS/ESCA、TOF-SIMS ～各種材料の表面分析～】

開催日時
2017年2月17日（金）13:00～16:30【申込締切：2017年2月16日（木）】
会場
東京都中央区日本橋本町1-1-1 METLIFE日本橋本町ビル 8階
（株式会社東レリサーチセンター内　第2会議室）
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参加費用
40,000円（税込）
講師
研究部門　室長　辻淳一

申し込み受付を終了しました。

講座概要

一般に、フィルムや成型品のような有機材料の最表面（数nm）は、その組成や化学構造が内部（バルク）とは異なっている場合が多く、そのような最表面の元素組成や化学構造を調べるための代表的な分析手法として、
X線光電子分光法（XPS/ESCA）や飛行時間型2次イオン質量分析法（TOF-SIMS）などが用いられている。

本講座では、これから高分子などの有機材料の表面に関わる分析を必要とされる方を対象に、各分析手法の基礎や一般的な測定方法、分析における問題点とその解決策などについて、具体例を紹介しながら解説する。
また、最表面の分析だけでなく、表面から深さ方向に組成や化学構造の分布を調べる深さ方向分析についても紹介する。

カリキュラム

表面分析の概要
X線光電子分光法(XPS/ESCA)
  1. XPSの原理と特徴
  2. XPSの装置と測定・解析
  3. 気相化学修飾法
  4. 角度分解法およびイオンエッチングによる深さ方向分析
  5. XPS分析の応用事例
飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)
  1. TOF-SIMSの原理と特徴
  2. TOF-SIMSの装置と測定・解析
  3. TOF-SIMSによる各種材料分析
  4. GCIB-TOF-SIMSによる深さ方向分析
各種分析手法を用いた総合解析事例

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