無機分析化学研究部
導入装置一覧
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世界初のトリプル四重極型誘導結合プラズマ質量分析装置を導入しました
2014.06世界初のトリプル四重極型ICP-MSを導入しました。
本装置はMS/MS分析が可能であり、従来のシングルMSでは分離が困難であった試料中の夾雑物や前処理に用いる試薬由来のスペクトル干渉を回避し、信頼性の高い分析値を提供します。
様々な材料の微量不純物分析に適用可能であり、特に、共存成分の影響で困難であった元素の測定に有効です。 -
レーザーアブレーションICP-MSシステムを導入しました
2009.06レーザーアブレーションICP-MSシステムを導入いたしました。本システムは、レーザーを照射して、試料を気化させるレーザーアブレーション装置と、気化した試料をArのプラズマに導入して質量分析を行うICP-MSから構成されています。
レーザーは、Nd-YAG:波長213nmで、照射径は4~200μmの範囲で変えられます。短波長のレーザーのため、試料の表面付近から効率よく気化させることが可能です。一方、ICP-MSはDRC(Dynamic Reaction Cell)機構を搭載しており、ICP-MS特有の妨害イオンを除去することができます。
本システムにより、ミクロンレベルの微小部位の高感度な不純物分析、不純物の深さ方向分析などが可能となりました。金属材料、高分子材料、生体試料など幅広い分野に適用が期待されます。
保有機能
目的 | 装置·手法 |
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無機元素組成分析 | ICP発光分光分析 (ICP-AES) 原子吸光分析法 (フレーム法、水素化法、加熱気化Hg法) 蛍光X線分析 (WDX、EDX) 無機物中C,H,N,S,O分析 |
イオン分析 | イオンクロマトグラフィー (IC) IC-質量分析 (MS) キャピラリー電気泳動 (CE) |
工業材料の微量無機元素分析 | ICP-MS ICP-AES 黒鉛炉加熱型原子吸光分析 |
半導体材料の超微量無機元素分析 | ICP-MS ICP-AES 黒鉛炉加熱型原子吸光分析 |
医薬品・生体試料中の微量無機元素分析 | ICP-MIS ICP-AES 黒鉛加熱型原子吸光分析 信頼性の基準・GMP対応試験 |
エア・ガス中の無機元素分析 | 各種ガス捕集 IC IC-MS ICP-MS |